低折射率二氧化硅微粉

通过磁控溅射生产的超低折射率 SiO2 减反射涂层,Nano

2022年9月12日  这项工作介绍了一种基于溅射的牺牲致孔剂工艺来制造多层纳米多孔 SiO 2涂层，该涂层具有低至n eff的可调折射率= 111。 使用这种方法，我们展示了一种阶梯式双层增透膜，它具有出色的广角增透性能（可见光谱中的单面平均反射率范围从法向入射时的 0

用于大面积、低成本制造超低折射率涂层的纳米多孔二氧化硅

2023年8月24日  这项工作提出了一种基于磁控管共溅射和随后的选择性化学蚀刻的超低折射率薄膜的生产方法，其中通过形成尺寸小于的随机孔的牺牲方法来制备具有可变折射率的纳米多孔二氧化硅薄膜。

通过一步法改性二氧化硅纳米粒子涂层制备的低折射率高透明

2014年4月16日  光学透明且低折射率的薄膜是通过一步法涂覆改性的二氧化硅纳米粒子组成的。 通过溶胶凝胶法水解和缩合烷氧基硅烷化合物制备二氧化硅纳米粒子，然后使用甲氧基三甲基硅烷（MOTMS）完成50±10 nm的表面改性二氧化硅纳米粒子。

二氧化硅微粉 标准百度文库

折射率的高低直接影响到材料的光学透过性、反射性以及成像质量等方面。因此，需对二氧化硅微粉的折射率进行严格控制，以满足不同应用领域对光学性能的要求。 2折射率：二氧化硅微粉的折射率应符合相关标准，如GB/T 150622006《工业硅酸钠》等。

圣安斯透明粉玻璃粉高钛粉硅微粉滑石粉开口剂二氧化硅

2022年12月13日  圣安斯塑料级S系列开口剂（超细透明二氧化硅）是一种合成无定型无机二氧化硅，外观为白色粉末，经特殊加工工艺制造，其表面经过特殊处理， 与塑料具有良好的相溶性，具有多孔结构、高比表面积的颗粒。

全能型选手！纳米二氧化硅在16个领域的应用速览

2022年8月27日  环氧树脂的高吸水率和粘度限制了它在超大规模集成电路中的应用，可以向环氧树脂中添加大量二氧化硅微粉，这样可降低塑封料的热膨胀系数、吸水率、内部应力、收缩率和改善热导率。

直流磁控溅射制备二氧化硅薄膜及其性能

控溅射法在单晶硅上制备二氧化硅薄膜。 利用X 射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以 及傅里叶交换红外光谱仪(FTIR)等 研究制备过程中氧含量和溅射功率对薄膜的微结 、表面形貌以及红外吸收等性能的影响。 结果表明,室 温下溅射出的SiO2薄膜是非晶结构的;随

低辐射结晶硅微粉江苏中腾石英材料科技股份有限公司

2023年4月10日  SINOCL系列 低辐射结晶硅微粉采用低辐射结晶二氧化硅为原料，经本司设计的专业设备加工而成二氧化硅粉体材料。 产品特点： 放射性元素含量低；

为什么需要减反射涂层，二氧化硅中空粒子到底有什么神奇

2021年12月3日  二氧化硅折射率15，本身并不是理想的低折材料，但是如果能在二氧化硅材料中引入孔隙，让空气分担一部分折射率，结果是极好的。 举个例子，如果二氧化硅有 50%的孔隙率，那么复合折射率就是15*50% + 1*50% = 125，远低于氟化镁，价格优势就更

通过磁控溅射生产的超低折射率 SiO2 减反射涂层,Nano

2022年9月12日  这项工作介绍了一种基于溅射的牺牲致孔剂工艺来制造多层纳米多孔 SiO 2涂层，该涂层具有低至n eff的可调折射率= 111。 使用这种方法，我们展示了一种阶梯式双层增透膜，它具有出色的广角增透性能（可见光谱中的单面平均反射率范围从法向入射时的 0

用于大面积、低成本制造超低折射率涂层的纳米多孔二氧化硅

2023年8月24日  这项工作提出了一种基于磁控管共溅射和随后的选择性化学蚀刻的超低折射率薄膜的生产方法，其中通过形成尺寸小于的随机孔的牺牲方法来制备具有可变折射率的纳米多孔二氧化硅薄膜。

通过一步法改性二氧化硅纳米粒子涂层制备的低折射率高透明

2014年4月16日  光学透明且低折射率的薄膜是通过一步法涂覆改性的二氧化硅纳米粒子组成的。 通过溶胶凝胶法水解和缩合烷氧基硅烷化合物制备二氧化硅纳米粒子，然后使用甲氧基三甲基硅烷（MOTMS）完成50±10 nm的表面改性二氧化硅纳米粒子。

二氧化硅微粉 标准百度文库

折射率的高低直接影响到材料的光学透过性、反射性以及成像质量等方面。因此，需对二氧化硅微粉的折射率进行严格控制，以满足不同应用领域对光学性能的要求。 2折射率：二氧化硅微粉的折射率应符合相关标准，如GB/T 150622006《工业硅酸钠》等。

圣安斯透明粉玻璃粉高钛粉硅微粉滑石粉开口剂二氧化硅

2022年12月13日  圣安斯塑料级S系列开口剂（超细透明二氧化硅）是一种合成无定型无机二氧化硅，外观为白色粉末，经特殊加工工艺制造，其表面经过特殊处理， 与塑料具有良好的相溶性，具有多孔结构、高比表面积的颗粒。

全能型选手！纳米二氧化硅在16个领域的应用速览

2022年8月27日  环氧树脂的高吸水率和粘度限制了它在超大规模集成电路中的应用，可以向环氧树脂中添加大量二氧化硅微粉，这样可降低塑封料的热膨胀系数、吸水率、内部应力、收缩率和改善热导率。

直流磁控溅射制备二氧化硅薄膜及其性能

控溅射法在单晶硅上制备二氧化硅薄膜。 利用X 射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以 及傅里叶交换红外光谱仪(FTIR)等 研究制备过程中氧含量和溅射功率对薄膜的微结 、表面形貌以及红外吸收等性能的影响。 结果表明,室 温下溅射出的SiO2薄膜是非晶结构的;随

低辐射结晶硅微粉江苏中腾石英材料科技股份有限公司

2023年4月10日  SINOCL系列 低辐射结晶硅微粉采用低辐射结晶二氧化硅为原料，经本司设计的专业设备加工而成二氧化硅粉体材料。 产品特点： 放射性元素含量低；

为什么需要减反射涂层，二氧化硅中空粒子到底有什么神奇

2021年12月3日  二氧化硅折射率15，本身并不是理想的低折材料，但是如果能在二氧化硅材料中引入孔隙，让空气分担一部分折射率，结果是极好的。 举个例子，如果二氧化硅有 50%的孔隙率，那么复合折射率就是15*50% + 1*50% = 125，远低于氟化镁，价格优势就更

通过磁控溅射生产的超低折射率 SiO2 减反射涂层,Nano

2022年9月12日  这项工作介绍了一种基于溅射的牺牲致孔剂工艺来制造多层纳米多孔 SiO 2涂层，该涂层具有低至n eff的可调折射率= 111。 使用这种方法，我们展示了一种阶梯式双层增透膜，它具有出色的广角增透性能（可见光谱中的单面平均反射率范围从法向入射时的 0

用于大面积、低成本制造超低折射率涂层的纳米多孔二氧化硅

2023年8月24日  这项工作提出了一种基于磁控管共溅射和随后的选择性化学蚀刻的超低折射率薄膜的生产方法，其中通过形成尺寸小于的随机孔的牺牲方法来制备具有可变折射率的纳米多孔二氧化硅薄膜。

通过一步法改性二氧化硅纳米粒子涂层制备的低折射率高透明

2014年4月16日  光学透明且低折射率的薄膜是通过一步法涂覆改性的二氧化硅纳米粒子组成的。 通过溶胶凝胶法水解和缩合烷氧基硅烷化合物制备二氧化硅纳米粒子，然后使用甲氧基三甲基硅烷（MOTMS）完成50±10 nm的表面改性二氧化硅纳米粒子。

二氧化硅微粉 标准百度文库

折射率的高低直接影响到材料的光学透过性、反射性以及成像质量等方面。因此，需对二氧化硅微粉的折射率进行严格控制，以满足不同应用领域对光学性能的要求。 2折射率：二氧化硅微粉的折射率应符合相关标准，如GB/T 150622006《工业硅酸钠》等。

圣安斯透明粉玻璃粉高钛粉硅微粉滑石粉开口剂二氧化硅

2022年12月13日  圣安斯塑料级S系列开口剂（超细透明二氧化硅）是一种合成无定型无机二氧化硅，外观为白色粉末，经特殊加工工艺制造，其表面经过特殊处理， 与塑料具有良好的相溶性，具有多孔结构、高比表面积的颗粒。

全能型选手！纳米二氧化硅在16个领域的应用速览

2022年8月27日  环氧树脂的高吸水率和粘度限制了它在超大规模集成电路中的应用，可以向环氧树脂中添加大量二氧化硅微粉，这样可降低塑封料的热膨胀系数、吸水率、内部应力、收缩率和改善热导率。

直流磁控溅射制备二氧化硅薄膜及其性能

控溅射法在单晶硅上制备二氧化硅薄膜。 利用X 射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以 及傅里叶交换红外光谱仪(FTIR)等 研究制备过程中氧含量和溅射功率对薄膜的微结 、表面形貌以及红外吸收等性能的影响。 结果表明,室 温下溅射出的SiO2薄膜是非晶结构的;随

低辐射结晶硅微粉江苏中腾石英材料科技股份有限公司

2023年4月10日  SINOCL系列 低辐射结晶硅微粉采用低辐射结晶二氧化硅为原料，经本司设计的专业设备加工而成二氧化硅粉体材料。 产品特点： 放射性元素含量低；

为什么需要减反射涂层，二氧化硅中空粒子到底有什么神奇

2021年12月3日  二氧化硅折射率15，本身并不是理想的低折材料，但是如果能在二氧化硅材料中引入孔隙，让空气分担一部分折射率，结果是极好的。 举个例子，如果二氧化硅有 50%的孔隙率，那么复合折射率就是15*50% + 1*50% = 125，远低于氟化镁，价格优势就更

通过磁控溅射生产的超低折射率 SiO2 减反射涂层,Nano

2022年9月12日  这项工作介绍了一种基于溅射的牺牲致孔剂工艺来制造多层纳米多孔 SiO 2涂层，该涂层具有低至n eff的可调折射率= 111。 使用这种方法，我们展示了一种阶梯式双层增透膜，它具有出色的广角增透性能（可见光谱中的单面平均反射率范围从法向入射时的 0

用于大面积、低成本制造超低折射率涂层的纳米多孔二氧化硅

2023年8月24日  这项工作提出了一种基于磁控管共溅射和随后的选择性化学蚀刻的超低折射率薄膜的生产方法，其中通过形成尺寸小于的随机孔的牺牲方法来制备具有可变折射率的纳米多孔二氧化硅薄膜。

通过一步法改性二氧化硅纳米粒子涂层制备的低折射率高透明

2014年4月16日  光学透明且低折射率的薄膜是通过一步法涂覆改性的二氧化硅纳米粒子组成的。 通过溶胶凝胶法水解和缩合烷氧基硅烷化合物制备二氧化硅纳米粒子，然后使用甲氧基三甲基硅烷（MOTMS）完成50±10 nm的表面改性二氧化硅纳米粒子。

二氧化硅微粉 标准百度文库

折射率的高低直接影响到材料的光学透过性、反射性以及成像质量等方面。因此，需对二氧化硅微粉的折射率进行严格控制，以满足不同应用领域对光学性能的要求。 2折射率：二氧化硅微粉的折射率应符合相关标准，如GB/T 150622006《工业硅酸钠》等。

圣安斯透明粉玻璃粉高钛粉硅微粉滑石粉开口剂二氧化硅

2022年12月13日  圣安斯塑料级S系列开口剂（超细透明二氧化硅）是一种合成无定型无机二氧化硅，外观为白色粉末，经特殊加工工艺制造，其表面经过特殊处理， 与塑料具有良好的相溶性，具有多孔结构、高比表面积的颗粒。

全能型选手！纳米二氧化硅在16个领域的应用速览

2022年8月27日  环氧树脂的高吸水率和粘度限制了它在超大规模集成电路中的应用，可以向环氧树脂中添加大量二氧化硅微粉，这样可降低塑封料的热膨胀系数、吸水率、内部应力、收缩率和改善热导率。

直流磁控溅射制备二氧化硅薄膜及其性能

控溅射法在单晶硅上制备二氧化硅薄膜。 利用X 射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以 及傅里叶交换红外光谱仪(FTIR)等 研究制备过程中氧含量和溅射功率对薄膜的微结 、表面形貌以及红外吸收等性能的影响。 结果表明,室 温下溅射出的SiO2薄膜是非晶结构的;随

低辐射结晶硅微粉江苏中腾石英材料科技股份有限公司

2023年4月10日  SINOCL系列 低辐射结晶硅微粉采用低辐射结晶二氧化硅为原料，经本司设计的专业设备加工而成二氧化硅粉体材料。 产品特点： 放射性元素含量低；

为什么需要减反射涂层，二氧化硅中空粒子到底有什么神奇

2021年12月3日  二氧化硅折射率15，本身并不是理想的低折材料，但是如果能在二氧化硅材料中引入孔隙，让空气分担一部分折射率，结果是极好的。 举个例子，如果二氧化硅有 50%的孔隙率，那么复合折射率就是15*50% + 1*50% = 125，远低于氟化镁，价格优势就更

通过磁控溅射生产的超低折射率 SiO2 减反射涂层,Nano

2022年9月12日  这项工作介绍了一种基于溅射的牺牲致孔剂工艺来制造多层纳米多孔 SiO 2涂层，该涂层具有低至n eff的可调折射率= 111。 使用这种方法，我们展示了一种阶梯式双层增透膜，它具有出色的广角增透性能（可见光谱中的单面平均反射率范围从法向入射时的 0

用于大面积、低成本制造超低折射率涂层的纳米多孔二氧化硅

2023年8月24日  这项工作提出了一种基于磁控管共溅射和随后的选择性化学蚀刻的超低折射率薄膜的生产方法，其中通过形成尺寸小于的随机孔的牺牲方法来制备具有可变折射率的纳米多孔二氧化硅薄膜。

通过一步法改性二氧化硅纳米粒子涂层制备的低折射率高透明

2014年4月16日  光学透明且低折射率的薄膜是通过一步法涂覆改性的二氧化硅纳米粒子组成的。 通过溶胶凝胶法水解和缩合烷氧基硅烷化合物制备二氧化硅纳米粒子，然后使用甲氧基三甲基硅烷（MOTMS）完成50±10 nm的表面改性二氧化硅纳米粒子。

二氧化硅微粉 标准百度文库

折射率的高低直接影响到材料的光学透过性、反射性以及成像质量等方面。因此，需对二氧化硅微粉的折射率进行严格控制，以满足不同应用领域对光学性能的要求。 2折射率：二氧化硅微粉的折射率应符合相关标准，如GB/T 150622006《工业硅酸钠》等。

圣安斯透明粉玻璃粉高钛粉硅微粉滑石粉开口剂二氧化硅

2022年12月13日  圣安斯塑料级S系列开口剂（超细透明二氧化硅）是一种合成无定型无机二氧化硅，外观为白色粉末，经特殊加工工艺制造，其表面经过特殊处理， 与塑料具有良好的相溶性，具有多孔结构、高比表面积的颗粒。

全能型选手！纳米二氧化硅在16个领域的应用速览

2022年8月27日  环氧树脂的高吸水率和粘度限制了它在超大规模集成电路中的应用，可以向环氧树脂中添加大量二氧化硅微粉，这样可降低塑封料的热膨胀系数、吸水率、内部应力、收缩率和改善热导率。

直流磁控溅射制备二氧化硅薄膜及其性能

控溅射法在单晶硅上制备二氧化硅薄膜。 利用X 射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以 及傅里叶交换红外光谱仪(FTIR)等 研究制备过程中氧含量和溅射功率对薄膜的微结 、表面形貌以及红外吸收等性能的影响。 结果表明,室 温下溅射出的SiO2薄膜是非晶结构的;随

低辐射结晶硅微粉江苏中腾石英材料科技股份有限公司

2023年4月10日  SINOCL系列 低辐射结晶硅微粉采用低辐射结晶二氧化硅为原料，经本司设计的专业设备加工而成二氧化硅粉体材料。 产品特点： 放射性元素含量低；

为什么需要减反射涂层，二氧化硅中空粒子到底有什么神奇

2021年12月3日  二氧化硅折射率15，本身并不是理想的低折材料，但是如果能在二氧化硅材料中引入孔隙，让空气分担一部分折射率，结果是极好的。 举个例子，如果二氧化硅有 50%的孔隙率，那么复合折射率就是15*50% + 1*50% = 125，远低于氟化镁，价格优势就更